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电子半导体
来源: | 作者:zhirui | 发布时间: 2019-06-12 | 3072 次浏览 | 分享到:
   过程简述

        在半导体产品制造过程中，由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对作为半导体行业的超纯水系统更是高之又高。半导体行业超纯水制造工艺可以概述为4个部分，分别为预处理部分、RO部分、电去离子部分和抛光混床部分；在有些半导体厂中， 也有用“阴床+阳床”代替电去离子装置的，主要根据原水水质和产水水质对弱电解质的要求而定。

       在液晶显示器的生产过程中要多次涉及到清洗工艺，如所使用的玻璃基板在受入前必须清洗干净，在溅镀ITO导电膜之前还需要清洗干净；除此之外，在涂敷光刻胶等之前都要对玻璃基板进行清洗，将1微米以上的颗粒以及所有的无机、有机污染物清洗干净，保证工艺达到所需要的精度要求。

       清洗液过滤以去除清洗过程中引入的杂质，达到清洗循环利用或排放标准；玻璃基板上的污染物，主要来自制造工艺过程以及玻璃基板的搬运、包装、运输、储存过程，主要的污染物有尘埃粒子、纤维纸屑、矿物油和油脂等油垢、氧化硅等无机颗粒、制备加工过程的残留物、水迹、手指印等。


  问题描述
避免传统离子再生耗费的大量酸碱，对环境更友好；
克服传统离子设备再生周期相对较长；
超滤反洗排水、一级RO浓水排水和CEDI浓水排水及其回收利用措施，利于节能减排；
节约水资源及半导体制造单位的运行成本。


电子工艺水流程图